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Matrículas no Sisutec podem ser feitas a partir de hoje

Resultado da primeira chamada do Sistema de Seleção Unificada da Educação Profissional e Tecnológica está disponível no site do Ministério da Educação

Técnico realiza manutenção: vagas para os cursos serão ocupadas prioritariamente por estudantes que tenham cursado o ensino médio completo em escolas públicas ou como bolsistas integral (Germano Lüders/EXAME.com)
DR

Da Redação

Publicado em 26 de março de 2014 às 14h18.

Brasília - Candidatos inscritos no Sistema de Seleção Unificada da Educação Profissional e Tecnológica (Sisutec) têm até a próxima sexta-feira (28) para fazer a matrícula. O resultado da primeira chamada está disponível no site do Ministério da Educação.

A primeira edição de 2014 do Sisutec ofereceu 293.738 vagas em cursos técnicos subsequentes – para pretendentes que concluíram o ensino médio . Os cursos são gratuitos e têm início previsto para o período de 14 de abril a 12 de maio.

As vagas para os cursos serão ocupadas prioritariamente por estudantes que tenham cursado o ensino médio completo em escolas da rede pública ou, se em instituições privadas, na condição de bolsista integral. O aluno também deverá ter feito o Exame Nacional do Ensino Médio (Enem) em 2013, sem zerar redação.

O MEC informou que a divulgação dos resultados da segunda chamada está prevista para o dia 1º de abril. Após as duas chamadas, todos os candidatos que tenham concluído o ensino médio poderão se candidatar às vagas remanescentes.

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As vagas para os cursos serão ocupadas prioritariamente por estudantes que tenham cursado o ensino médio completo em escolas da rede pública ou, se em instituições privadas, na condição de bolsista integral. O aluno também deverá ter feito o Exame Nacional do Ensino Médio (Enem) em 2013, sem zerar redação.

O MEC informou que a divulgação dos resultados da segunda chamada está prevista para o dia 1º de abril. Após as duas chamadas, todos os candidatos que tenham concluído o ensino médio poderão se candidatar às vagas remanescentes.

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